quinta-feira, 19 de janeiro de 2012

Concurso Cultural Risqué

Risqué promove Concurso Cultural e premia internautas com kit exclusivo SPFW


Risqué, patrocinadora oficial da 32ª edição do São Paulo Fashion Week, vai premiar 80 internautas com um kit com a nova Linha Risqué Technology e uma exclusiva camiseta Risqué SPFW. O Concurso Cultural “Unhas bem cuidadas está na moda” acaba de ser lançado no Facebook (www.facebook.com/risqueoficial) e no site oficial da marca (www.risque.com.br). Para participar, as internautas devem criar uma dica relacionada ao tema “Fique na moda! Unhas bem cuidadas estão em alta. Compartilhe o melhor segredo para estar por dentro dessa tendência!”.  Criatividade, relevância e originalidade são os conceitos utilizados para a escolha das vencedoras. As 80 criadoras das melhores dicas receberão um kit exclusivo SPFW. O concurso vai até o dia 26 de janeiro e o resultado será divulgado no dia 3 de fevereiro.

Desenvolvida com a mais alta e moderna tecnologia a nova linha Risqué Technology possui novas embalagens e uma grande novidade: Risqué Technology Cobertura Brilhante, que garante secagem rápida e oferece até 66% mais brilho nas unhas. Risqué Technology atua em todas as frentes de cuidados específicos com as unhas. São duas opções de base: Risqué Technology Base Reestruturadora, para recuperar unhas quebradiças, e Risqué Technology Base Niveladora, para o preenchimento de falhas e ondulações. Além de Risqué Technology Reparador Noturno que nutre e fortalece as unhas.


Beijos

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